TSMC 2奈米洩密案一審宣判：主謀陳力銘判10年，國安法修法後首例

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智慧財產及商業法院就 TSMC 2 奈米製程洩密案作出一審判決，主謀陳力銘判處 10 年有期徒刑，其餘 4 名被告分別判 2 至 6 年。本案為國家安全法有關竊取國家核心關鍵技術相關條文修法後的首件判決。（前情提要：我得了「TSMC 越好心情越不好的病」..離職前工程師心裡折磨、網友：你不下山人都沒了）（背景補充：金管會祭出「TSMC 條款」！臺股基金單一持股上限放寬至 25%，上看 2 千億活水湧入）智慧財產及商業法院於 4 月 27 日宣判 TSMC 2 奈米製程洩密案，全案可上訴。本案涉及 TSMC 離職與在職工程師，以及日本半導體裝置大廠 TEL 旗下臺灣子公司東京威力，被告共 5 人及 1 法人，核心爭點在於是否將 TSMC 國家核心關鍵技術提供予競爭裝置供應商。供應商競爭邏輯是本案的核心驅動力。東京威力亟欲打入 TSMC 2 奈米製程蝕刻裝置的供應鏈，而陳力銘正是這條非法捷徑的中間人。他在離開 TSMC 後，於 2023 年下半年起持續聯絡仍在職的工程師吳秉駿、戈一平，索取蝕刻站點的核心引數與製程檔案，再轉手提供給東京威力，協助其評估機臺設計與改善方向。法院認定，這段洩密行為持續至 2025 年上半年，期間被告不止口頭傳遞，甚至拍攝重製技術資料，最終目的是協助東京威力取得 2 奈米量產機臺的供應資格。臺灣高檢署智財分署於去年 8 月 27 日依國家安全法國家核心關鍵技術營業秘密之域外使用等罪起訴陳力銘、吳秉駿、戈一平，並因認定東京威力對陳力銘負有監督責任，追加起訴東京威力公司。檢方另查出東京威力硬碟中尚存有 TSMC 的「14奈米以下製程之 IC 製造技術及其關鍵氣體、化學品及裝置技術」等營業秘密，進一步追加起訴陳力銘、TSMC 工程師陳韋傑及東京威力員工盧怡尹。根據法院新聞稿，判決結果如下：陳力銘：犯一般侵害營業秘密之意圖域外使用罪等 5 罪，判處有期徒刑 10 年。陳韋傑（TSMC 在職工程師）：犯國安營業秘密之意圖域外使用罪，判處有期徒刑 6 年。吳秉駿（案發時 TSMC 在職工程師）：犯一般侵害營業秘密之意圖域外使用罪及國安營業秘密之意圖域外使用罪，判處有期徒刑 3 年。戈一平（TSMC 工程師）：犯國安營業秘密之意圖域外使用罪，判處有期徒刑 2 年。盧怡尹（東京威力員工）：犯湮滅刑事證據罪，判處有期徒刑 10 月，緩刑 3 年，並應支付公庫新臺幣 100 萬元、參加法治教育課程 6 場次。法人部分，東京威力公司被判罰金新臺幣 1 億 5000 萬元，惟宣告緩刑 3 年。根據法院新聞稿，東京威力承認犯罪、積極配合偵查，並偕同母公司日商 TEL 與 TSMC 達成和解，因此獲得緩刑宣告。這場歷時近兩年的司法攻防，兩方的對外表態也各自有所側重。TSMC 強調，對任何侵害營業秘密的行為向來零容忍，本次判決讓核心技術獲得充分的司法保護，公司將持續強化內控與監控機制，確保類似事件不再重演。對於審判結果，TEL 則試圖與組織層面劃清界線，聲稱無論母公司 TEL 或臺灣子公司東京威力科創，均未組織性介入本案，且相關機密資訊並無外流情事。本案具有明確的法律指標意義：這是國家安全法有關竊取國家核心關鍵技術相關條文修法後，法院所作出的第一件

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來源：動區 BlockTempo

發佈：2026-04-28 03:12:20

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