TSMCの2nmプロセス技術漏洩事件の第一審判決：主犯の陳力銘に懲役10年、国家安全法改正後初の判決

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知的財産及び商業裁判所は、TSMCの2nmプロセス技術漏洩事件について第一審判決を下した。主犯の陳力銘には懲役10年が言い渡され、その他の被告4名にはそれぞれ懲役2年から6年の判決が下された。本件は、国家安全法における国家核心重要技術の窃取に関する条文が改正されて以来、初の判決となる。（前日譚：私は「TSMCが好調だと気分が悪くなる病」にかかった…退職前のエンジニアの心の葛藤、ネットユーザーの声：「山を降りなければ誰もいなくなるぞ」）（背景補足：金融監督管理委員会が「TSMC条項」を発動！台湾株ファンドの単一銘柄保有上限を25％に緩和、最大2000億元の資金流入を見込む）知的財産及び商業裁判所は4月27日、TSMCの2nmプロセス技術漏洩事件について判決を言い渡した。本件は控訴可能である。本件にはTSMCの退職者および現職エンジニア、ならびに日本の半導体製造装置大手である東京エレクトロン（TEL）の台湾子会社である東京威力科創が関与しており、被告は計5名および1法人である。核心的な争点は、TSMCの国家核心重要技術を競合する装置サプライヤーに提供したか否かである。サプライヤー間の競争論理が、本件の核心的な原動力となっている。東京威力科創はTSMCの2nmプロセス向けエッチング装置のサプライチェーンへの参入を強く望んでおり、陳力銘はその不法な近道の仲介役であった。彼はTSMCを退職後、2023年下半期から現職のエンジニアである呉秉駿、戈一平に継続的に連絡を取り、エッチング装置の核心的なパラメータやプロセスファイルを要求し、それを東京威力科創に転売して、装置の設計評価や改善方向の検討を支援した。裁判所は、この漏洩行為が2025年上半期まで続いたと認定した。期間中、被告らは口頭での伝達のみならず、技術資料の撮影や複製も行っており、最終的な目的は東京威力科創が2nm量産装置の供給資格を獲得できるよう支援することであった。台湾高等検察署知的財産分署は昨年8月27日、国家安全法における国家核心重要技術の域外使用等の罪で陳力銘、呉秉駿、戈一平を起訴し、東京威力科創が陳力銘に対して監督責任を負うと認定したため、東京威力科創を追加起訴した。検察はさらに、東京威力科創のハードディスク内にTSMCの「14nm以下のプロセスにおけるIC製造技術およびその核心的なガス、化学品、装置技術」等の営業秘密が残存していることを突き止め、陳力銘、TSMCエンジニアの陳韋傑、および東京威力科創の従業員である盧怡尹を追加起訴した。裁判所のプレスリリースによると、判決結果は以下の通りである。陳力銘：一般の営業秘密侵害の域外使用意図罪など5つの罪で、懲役10年。陳韋傑（TSMC現職エンジニア）：国家安全法上の営業秘密の域外使用意図罪で、懲役6年。呉秉駿（事件当時TSMC現職エンジニア）：一般の営業秘密侵害の域外使用意図罪および国家安全法上の営業秘密の域外使用意図罪で、懲役3年。戈一平（TSMCエンジニア）：国家安全法上の営業秘密の域外使用意図罪で、懲役2年。盧怡尹（東京威力科創従業員）：刑事証拠隠滅罪で、懲役10ヶ月、執行猶予3年。また、国庫への100万台湾ドルの支払いおよび法治教育課程6回の受講を命じる。法人については、東京威力科創に対し罰金1億5000万台湾ドルが言い渡されたが、3年間の執行猶予が付与された。裁判所のプレスリリースによると、東京威力科創は罪を認め、捜査に積極的に協力したほか、親会社である日本の東京エレクトロン株式会社と共にTSMCと和解に達したため、執行猶予が認められた。約2年にわたるこの司法攻防において、双方の対外的な姿勢にはそれぞれの重点があった。TSMCは、いかなる営業秘密侵害行為に対してもゼロトレランス（不寛容）の姿勢を貫いており

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ソース：動區 BlockTempo

公開：2026-04-28 03:12:20

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